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SEMI 中国·半导体·· 6 天前精选AI 评分62
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长鑫科技披露4F²架构研发新进展,年底拟推新一代DDR5 RDIMM

长鑫科技披露4F²架构研发新进展

导读

长鑫存储总裁曹堪宇在第四届集成芯片和芯粒大会上宣布,预计年底推出融合4F²架构与混合键合等先进技术的新一代DDR5 RDIMM产品。4F²架构的核心是自研VSG(Vertical Surrounded Gate)晶体管,采用垂直包围沟道结构,可提升栅控并助力面积微缩,同面积存储密度可提升30%至50%。

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长鑫科技披露4F² DRAM架构研发进展,并给出存储密度提升区间与自研VSG晶体管结构,读者可据此了解DRAM单元架构从6F²向4F²演进的技术路径。

来源:SEMI 中国·半导体 · semi.org.cn

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