Semiconductor Engineering · Metrology· Gregory Haley·· 10 天前AI 评分42
AI 摘要
先进芯片量测与检测如何弥合可见性差距
Closing The Visibility Gap
导读
单一测试、检测或量测技术无法完整呈现先进芯片全貌,提升缺陷覆盖率日益依赖不同检测手段间的数据关联。Nordson Test & Inspection指出X射线和电学测试聚焦芯片互连,但焊料裂纹等缺陷可能通过电学测试却在长期运行中提前失效。ZEISS Microscopy强调高分辨率X射线扫描会产生GB甚至TB级数据,需结合启发式方法定位检测区域。
来源:Semiconductor Engineering · Metrology · semiengineering.com
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