ASML披露Hyper NA EUV技术，俄罗斯130纳米光刻机原型通过验收

ASML与蔡司联合披露Hyper NA EUV光刻技术，有望在约十年内就绪，将最小图案特征尺寸做到5纳米。俄罗斯ZNTC与Planar合作开发的130纳米步进式光刻机原型于2026年8月7日完成第三阶段设计验收，采用193纳米准分子激光器，用于直径200毫米晶圆，计划2027年签订批量供应合同。