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第三代半导体产业网·· 2 天前AI 评分22
AI 摘要

华中科技大学等联合团队实现780 nm免刻蚀薄膜铌酸锂微腔,本征品质因子达6.6×10⁵

780 nm免刻蚀超高品质因子薄膜铌酸锂微腔:华中科技大学、上海交通大学和南开大学联合团队在可见光集成光子学方面取得新进展

导读

华中科技大学徐竞团队联合上海交通大学纪幸辰团队、南开大学文花顺团队,在薄膜铌酸锂表面构筑ARP-6200聚合物波导,无需直接刻蚀铌酸锂即实现780 nm布拉格光栅FP微腔,本征品质因子达6.6×10⁵,谐振峰线宽672 MHz。该方案在通信波段薄膜铌酸锂和氮化硅平台分别获得2.2×10⁶和1.9×10⁶的本征品质因子,成果发表于《Laser & Photonics Reviews》。

来源:第三代半导体产业网 · casmita.com

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