苏大维格SVG微纳光制造创新中心开工
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10月13日,苏大维格SVG微纳光制造卓越创新中心在苏州工业园区新昌路68号开工,面向先进封装、新型显示、AR光学等赛道。该中心为2021年定增募投项目之一,投入募集资金3.5亿元,建设内容包括建筑工程、设备及实验室,预定可使用状态日期为2028年12月31日;截至6月30日累计投入3,269.01万元,投资进度9.34%。后续报道称,此次开工为一期,项目利用剩余34亩空地建设,建筑面积6.5万平方米,计划2028年底竣工投用;建成后将作为江苏省重点实验室、微纳光制造先进技术研究院和成果孵化中试基地,聚焦半导体光刻、光学检测、新型显示等领域。苏大维格近两年重点布局半导体掩模缺陷检测和先进封装光刻设备,自主构建激光直写光刻、纳米压印两大核心装备技术体系。
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报道时间线AI 摘要
沿着报道,了解事件的不同侧面。
- 第三代半导体产业网苏大维格SVG微纳光制造卓越创新中心一期开工,计划2028年底竣工投用
10月13日,苏大维格在苏州工业园区举行SVG微纳光制造卓越创新中心一期开工仪式,项目利用剩余34亩空地建设,建筑面积6.5万平方米,计划2028年底竣工投用。该中心建成后将作为江苏省重点实验室、微纳光制造先进技术研究院和成果孵化中试基地,聚焦半导体光刻、光学检测、新型显示等领域。苏大维格近两年重点布局半导体掩模缺陷检测和先进封装光刻设备,自主构建激光直写光刻、纳米压印两大核心装备技术体系。
- 第三代半导体产业网苏大维格3.5亿元SVG微纳光制造卓越创新中心在苏州开工
10月13日,苏大维格SVG微纳光制造卓越创新中心在苏州工业园区新昌路68号开工,面向先进封装、新型显示、AR光学等赛道。该中心为2021年定增募投项目之一,投入募集资金3.5亿元,建设内容包括建筑工程、设备及实验室,预定可使用状态日期为2028年12月31日;截至6月30日累计投入3,269.01万元,投资进度9.34%。
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