苏大维格SVG微纳光制造卓越创新中心一期开工，计划2028年底竣工投用

10月13日，苏大维格在苏州工业园区举行SVG微纳光制造卓越创新中心一期开工仪式，项目利用剩余34亩空地建设，建筑面积6.5万平方米，计划2028年底竣工投用。该中心建成后将作为江苏省重点实验室、微纳光制造先进技术研究院和成果孵化中试基地，聚焦半导体光刻、光学检测、新型显示等领域。苏大维格近两年重点布局半导体掩模缺陷检测和先进封装光刻设备，自主构建激光直写光刻、纳米压印两大核心装备技术体系。