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Metrology News· Keith Mills Publishing Editor·· 3 天前精选AI 评分62
AI 摘要

蔡司推出NLX与DUNE检测量测系统,面向下一代半导体先进封装

ZEISS Advances Inspection and Metrology for Next-Generation Semiconductor Manufacturing

导读

蔡司半导体制造技术(ZEISS SMT)推出ZEISS NLX和ZEISS DUNE两套系统,应对先进封装中多芯片与chiplet集成带来的检测需求。NLX可在不破坏封装的前提下观察内部结构,用于检测堆叠裸片之间的连接并及早发现潜在缺陷,面向300mm晶圆,兼顾新工艺开发与大批量生产;DUNE则针对晶圆翘曲,测量晶圆形貌并进行单独校正,以支持后续键合等复杂工序。

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蔡司集中披露面向先进封装的NLX与DUNE检测量测系统,以及AIMS EUV 3.0光掩模检测能力,可据此了解下一代芯片制造对内部结构与晶圆形貌检测的新需求。

来源:Metrology News · metrology.news

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