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中微公司亮相2026工博会国芯展 Primo UD-RIE®刻蚀设备斩获CIIF大奖
中微公司亮相2026工博会国芯展 刻蚀设备斩获CIIF大奖
导读
中微公司Primo UD-RIE®电容耦合等离子体刻蚀设备在2026工博会国芯展上同时获得CIIF大奖与国芯展创新成果奖，该设备为12英寸高端CCP刻蚀机，配备六个单反应台反应腔。
来源：第三代半导体产业网 · casmita.com
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