第三代半导体产业网·· 3 小时前AI 评分12
AI 摘要
IFWS&SSLCHINA 2026报告前瞻|京都先端科学大学Alberto Castellazzi:匹配技术-拓扑设计以充分挖掘碳化硅功率MOSFET的潜力
导读
京都先端科学大学工程学院教授Alberto Castellazzi将于11月16-19日在苏州召开的IFWS&SSLCHINA 2026上作《匹配技术-拓扑设计以充分挖掘碳化硅功率MOSFET的潜力》主题报告,聚焦半桥开关与双向开关型架构。报告指出,通过适配性拓扑优化与匹配技术调整,部分场景下碳化硅器件系统整体能效可进一步提升10%以上,并降低开关损耗与长期运行失效风险。
来源:第三代半导体产业网 · casmita.com
中文标题、摘要由 AI 生成,以原文为准 · 使用规则